鍍鈦是在高溫，真空鈦金爐內，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉積帶負電荷的不銹鋼板上，從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。

以常用的鐵基和銅基結合劑為基體，分別加入表面未鍍和鍍鈦金剛石，然后在不同的燒結溫度下熱壓燒結分別得到鐵基和銅基結合劑胎體以及鐵基和銅基結合劑金剛石節塊，通過(guò)測試節塊的抗彎強度和觀(guān)測節塊斷面的微觀(guān)形貌來(lái)研究金剛石表面鍍鈦對金屬結合劑金剛石節塊把持力的影響。

　　離子束DLC：碳qin氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場(chǎng)的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過(guò)調整加在等離子體上的電壓來(lái)控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)在于可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個(gè)埃，并可將工藝過(guò)程中的顆料污染所帶來(lái)的缺陷降至。

卷繞式鍍膜機30年來(lái)有了較大的發(fā)展，鍍膜產(chǎn)品廣泛用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更大，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結構。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較大的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的大量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來(lái)的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結構必須配置較大的排氣系統才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機組，使設備成本降低，并節約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。